《光刻機之突破》

目前，美國及美國施壓下的日本丶荷蘭計劃進一步擴大對華半導體限制出口。然而，中國大陸官方～中國工業和信息化部宣布推廣一款可生產8納米及以下芯片的國產光刻機～深紫外光曝光機DUV。

筆者認為，這說明了中國大陸取得了科技突破，但官方未透露其良率之信息，一些人認為可能在國際競爭力方面稍弱。筆者認為，只要有技術突破，慢慢可以一步一步地改進，不斷提升。

中國工業和信息化部是在9月9日正式於其官網發布首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄，要求各地和中央企業加強產業、財政、金融、科技等國家支持政策的協同，促進重大技術裝備創新發展和推廣應用。

其目錄顯示，在集成電路生產裝備分類中，一款中國研發的氟化氬光刻機的核心技術指標，已包括可製65納米以下分辨率和8納米及以下套刻能力。也就是說，此設備可以用於生產8納米及以下的芯片。

相關消息上周末在中國及海外各大網絡都引發了強烈關注。一些中國網民認為這是對荷蘭和美國的反擊，並為此感到振奮。海外評論這則消息時，大多都是從挑毛病的角度出發，一部分也感到非常焦慮、擔心，怕他們的壟斷被打破。

筆者知道，荷蘭芯片設備供應商阿斯麥ASML幾乎壟斷這類光刻機的全球市場，並且從2019年以來被禁止向中國出口該設備。筆者認為，中國實現8納米及以下芯片的生產，未來多數芯片的制造將無需受制於ASML。

而在上述目錄公布的三天前，荷蘭在美國的壓力下，宣布擴大ASML兩款光刻設備的出口許可要求，使荷蘭方面的規則與美國去年單方面對這些機器實施的出口限制保持一致。中國商務部之後表示不滿，並呼籲荷蘭不濫用出口管制措施。

外國專家說，這款光刻機被中國工信部放在數百個設備名單中，沒有特別強調出來。加上中國大陸這款光刻機的精準度和良率指標目前並不清楚。筆者也留意到，台灣和韓國也在生產光刻機，但因良率不高很難取得市場。但中國大陸的宣布是一個里程碑，可以當做一個科技突破的信號，這已很了不起了。筆者認為，第一代的中國國產氟化氬光刻機落後不要緊，有了技術突破之後，未來還有第二代第三代跟進。

筆者認為，重大技術裝備是國之重器，事關綜合國力和國家安全，對中國非常重要。中國首台（套）重大技術裝備是指國內實現重大技術突破、擁有智慧財產權、尚未取得明顯市場業績的裝備產品，包括整機設備、核心系統和關鍵零部件等，令人欣慰！

筆者認為，中國大陸以舉國之力發展光刻機確實有優勢，也在尊重科學與事實，整個行業都在奮發努力。加上中國大陸對技術攻關的突破者之利益分配上采取了很大的改善措施，這在中共二十屆三中全會的決定當中也有體現。中國的突破將陸續有來。

張振鴻工程師 林沛瑩測量師 建築工程公司董事

香港建設專業聯會理事